Related Articles
Imec mendemonstrasikan pencitraan garis pitch / space resist 20-nm dengan litografi interferensi EUV NA tinggi
Posted on Author adminhk
Representasi skematis (bukan untuk skala) pengaturan Mirror Lloyd untuk eksperimen kupon interferensi EUV NA tinggi. Kredit: IMEC Imec melaporkan untuk pertama kalinya penggunaan sumber 13,5-nm, generasi harmonik tinggi untuk pencetakan garis / ruang 20-nm menggunakan pencitraan litograf interferensi dari oksida logam Inpria resist di bawah bukaan numerik tinggi (tinggi -NA) kondisi. Kemampuan NA tinggi yang […]
Pertama di dunia untuk AI etis dan ekuitas tempat kerja
Posted on Author adminhk
AI yang etis membahas ekuitas tempat kerja Kredit: Gambar Kraken di unsplash Perusahaan, organisasi, dan pemerintah di seluruh dunia menghadapi tantangan yang luar biasa untuk membangun kembali tenaga kerja mereka dalam skala besar, dan dengan keyakinan bahwa teknologi yang mereka gunakan untuk membuat keputusan penting adalah adil, akurat, dan setara. Reejig, platform intelijen tenaga kerja […]
Memproduksi LED yang sangat efisien berdasarkan film perovskit 2D
Posted on Author adminhk
Pengaruh MeS pada distribusi fase film perovskit. Jalur kuning menunjukkan transfer energi eksiton antara nanosheet dengan ketebalan berbeda. Kredit: Lingmei Kong dkk. Dioda pemancar cahaya (LED) hemat energi telah digunakan dalam kehidupan kita sehari-hari selama beberapa dekade. Tetapi pencarian untuk LED yang lebih baik, menawarkan biaya yang lebih rendah dan warna yang lebih cerah, baru-baru […]